Etnews oznámilo, že společnosti Samsung Electronics a SK Hynix objednaly zařízení pro vystavení ultrafialovému záření (EUV) s vysokou NA

Etnews oznámilo, že společnosti Samsung Electronics a SK Hynix si objednaly vysoce NA ultra-ultrafialové (EUV) osvitové zařízení pro další generaci polovodičových zařízení od litografického giganta ASML. Po TSMC a Intelu se korejští výrobci polovodičů také chystají uvést zařízení schopné 2nm procesu. Očekává se, že konkurence o nejpokročilejší procesy zesílí.

IT House chápe, že zařízení High-NA EUV je dražší než zařízení EUV, které se v současnosti používá, ale umožňuje jednorázovou implementaci ultrajemného procesu (single patterning), který může výrazně zvýšit produktivitu. Pokud jde o Samsung Electronics, je nutné zajistit High-NA EUV zařízení pro 2nm sériovou výrobu s předstihem před 3nm sériovou výrobou. Stávající zařízení EUV se odhaduje na 200 miliard wonů (asi 1,008 miliardy juanů) až 300 miliard wonů (asi 1,512 miliardy juanů), zatímco náklady na zařízení High-NA EUV se odhadují na 500 miliard wonů (asi 2,52 miliardy juanů).